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General Atomics 入选 Stanford/Elsevier 2026 榜单

Stanford/Elsevier 榜单收录各子领域被引最多的前 2% 科学家。以下是该机构至少入选两项排名之一的人员:终身排名和年度排名(2025 年引用)。

21

位入选研究人员

757

美国排名

2,543

全球排名(共 38,384 个)

按入选人数排名,由我们根据同一数据计算。

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完整名单,包括每位学者的排名、子领域、c 分数、h 指数和引用次数,可用 Excel 打开。

点击姓名查看详情。各列为其在每份榜单中的子领域排名。

姓名子领域终身榜年度榜
Rosenbluth, Marshall N.Fluids & Plasmas73 / 58,297154 / 58,297
Burrell, Keith H.Fluids & Plasmas150 / 58,297437 / 58,297
Candy, Jeff M.Fluids & Plasmas510 / 58,297216 / 58,297
Strait, Edward J.Fluids & Plasmas369 / 58,297567 / 58,297
Waltz, Ronald E.Fluids & Plasmas433 / 58,297560 / 58,297
Leonard, Anothony W.Fluids & Plasmas585 / 58,297368 / 58,297
Staebler, Gary M.Fluids & Plasmas740 / 58,297383 / 58,297
Liu, Y. Q.Fluids & Plasmas746 / 58,297395 / 58,297
la Haye, Robert JohnFluids & Plasmas540 / 58,297946 / 58,297
Groebner, Richard J.Fluids & Plasmas567 / 58,297—
Evans, Todd E.Fluids & Plasmas684 / 58,297794 / 58,297
Lao, Lang L.Fluids & Plasmas702 / 58,2971,057 / 58,297
Greene, John M.Fluids & Plasmas783 / 58,297935 / 58,297
Petty, Clinton CraigFluids & Plasmas1,037 / 58,297—
Humphreys, David A.Fluids & Plasmas—790 / 58,297
Belli, Emily AnnFluids & Plasmas—1,039 / 58,297
Perry, Michael D.Optoelectronics & Photonics615 / 140,2721,294 / 140,272
Sips, Adrianus C.C.Fluids & Plasmas—1,141 / 58,297
Doane, John L.Energy6,022 / 371,959—
West, William P.Energy6,342 / 371,959—
Kaae, James L.Energy8,148 / 371,959—

来源:Ioannidis JPA, Elsevier (2026). August 2026 data-update for "Updated science-wide author databases of standardized citation indicators". Mendeley Data,第 9 版。许可协议 CC BY-NC 3.0。 doi:10.17632/btchxktzyw.9

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