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Texas Materials Institute auf der Stanford/Elsevier-Liste 2026

Die Stanford/Elsevier-Liste umfasst die 2 % meistzitierten Wissenschaftler jedes Teilgebiets. Hier stehen die Personen dieser Einrichtung, die in mindestens einem der beiden Rankings vorkommen: über die gesamte Karriere und im letzten Jahr (Zitationen aus 2025).

18

Personen auf der Liste

839

Rang in Vereinigte Staaten

2.890

Rang weltweit, von 38.384

Ränge nach Zahl der Personen auf der Liste; wir berechnen sie aus denselben Daten.

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Die vollständige Liste mit Rang, Teilgebiet, c-Score, h-Index und Zitationen jeder Person als Datei für Excel.

Klicken Sie auf einen Namen, um den Eintrag zu sehen. Die Spalten zeigen den Rang im Teilgebiet in jeder Liste.

NameTeilgebietKarriereEinzeljahr
Goodenough, John B.Applied Physics3 / 323.2823 / 323.282
Manthiram, ArumugamNanoscience & Nanotechnology5 / 177.8593 / 177.859
Korgel, Brian A.Nanoscience & Nanotechnology202 / 177.8591.886 / 177.859
Warner, Jamie H.Nanoscience & Nanotechnology480 / 177.8591.625 / 177.859
Siegel, Donald J.Materials778 / 330.896782 / 330.896
Li, XiulingApplied Physics1.030 / 323.2821.182 / 323.282
Lu, NanshuNanoscience & Nanotechnology1.852 / 177.8591.511 / 177.859
Zheng, Jingxu KentMaterials4.642 / 330.8961.161 / 330.896
Muliins, C. B.Nanoscience & Nanotechnology702 / 177.8592.053 / 177.859
Li, WangdaNanoscience & Nanotechnology—2.138 / 177.859
Mitlin, DavidNanoscience & Nanotechnology2.176 / 177.8592.649 / 177.859
Lai, KejiNanoscience & Nanotechnology—3.867 / 177.859
Orbach, Raymond L.Applied Physics2.613 / 323.2825.461 / 323.282
Piner, Richard D.Nanoscience & Nanotechnology2.255 / 177.859—
Subramanian, Venkat R.Energy3.980 / 371.9595.996 / 371.959
Rodin, Gregory J.Mechanical Engineering & Transports2.963 / 157.792—
Ren, HangGeneral Chemistry—906 / 57.505
Chen, ZhihanOptoelectronics & Photonics—2.750 / 140.272

Quelle: Ioannidis JPA, Elsevier (2026). August 2026 data-update for „Updated science-wide author databases of standardized citation indicators“. Mendeley Data, Version 9. Lizenz CC BY-NC 3.0. doi:10.17632/btchxktzyw.9

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